Ve Vašem prohlížeči je vypnut Javascript. Chcete-li bez omezení používat tuto webovou stránku, doporučujeme jeho zapnutí.

Skin1004 madagascar Centella plátýnková maska minimalizující viditelnost pórů, 23 ml_1

Skin1004 madagascar Centella plátýnková maska minimalizující viditelnost pórů, 23 ml_2

Skin1004 madagascar Centella plátýnková maska minimalizující viditelnost pórů, 23 ml_3

Skin1004 madagascar Centella

plátýnková maska minimalizující viditelnost pórů, 23 ml

89 Kč

Doručení domů: 2 - 4 dny

Další informace o Skin1004 madagascar Centella

Maska na plátku s účinkem snižujícím viditelnost pór, zklidňujícím záněty pleti a intenzivně regenerujícím. Obsahuje v produktu gotu kola, která zklidňuje podráždění a zarudnutí, panthenol, adenosin a hyaluronát sodný hydratují pleť, a glukonolakton ji jemně exfoliuje, vykazuje účinek podobný AHA kyselinám, ale bez vyvolání podráždění. Přídavek derivátů salicylové kyseliny snižuje viditelnost nedokonalostí a urychluje jejich hojení, má protizánětlivý účinek a také zlepšuje tón pleti. Maska na plátku se skvěle hodí pro mastnou a smíšenou pleť.

ID: 595609

Jednotková cena: 387 Kč /100ml

Mohlo by se vám líbit

produktu

N/A

produktu

N/A

produktu

N/A

produktu

N/A

Složení

Water, Dipropylene Glycol, Glycerin, Glycereth-26, Butylene Glycol, Panthenol, Hydroxyacetophenone, Polyglyceryl-10 Laurate, Carbomer, Caprylyl Glycol, Arginine, Centella Asiatica Extract(1,000 ppm), 1,2-Hexanediol, Adenosine, Pentylene Glycol, Xanthan Gum, Propanediol, Ethylhexylglycerin, Allantoin, Sodium Hyaluronate, Disodium EDTA, Succinic Acid, Lactobacillus/Hibiscus Sabdariffa Flower Ferment Filtrate, Citric Acid, Tromethamine, Betaine Salicylate, Glycolipids, Gluconolactone, Mentha Arvensis Leaf Oil, Dipotassium Glycyrrhizate, Hydrolyzed Collagen, Mineral Salts, Capryloyl Salicylic Acid